已經(jīng)氧化的銅怎么還原除銹？

在現(xiàn)代工藝生產(chǎn)中，銅是非常常見的處理材料，可同時(shí)它也有一個(gè)小問題，那就是銅易被氧氣氧化，生成氧化銅或氧化亞銅，這對(duì)電導(dǎo)率、信號(hào)傳輸和后續(xù)焊接都有較大的影響。

氧化還原的方法有很多，如加熱、使用酸堿性溶液或與氫氣反應(yīng)。但加熱和使用酸性或堿性溶液都會(huì)損傷到產(chǎn)品的基能，而氫氣可以有效地去除氧化物，可在運(yùn)輸和保存的過程中付出的成本比較高，危險(xiǎn)性也比較大，所幸用等離子清洗可有效地達(dá)到還原效果。

   等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)，等離子體的"活性"組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子體表面處理機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

等離子體中粒子的能量一般約為幾個(gè)至十幾電子伏特，大于聚合物材料的結(jié)合鍵能(幾個(gè)至十幾電子伏特)，完全可以破裂有機(jī)大分子的化學(xué)鍵而形成新鍵；但遠(yuǎn)低于高能放射性射線，只涉及材料表面，不影響基體的性能。

此次還原的樣品總共有兩種，分別是裸銅和鍍銀陶瓷基板，測試過程放在表面皿里面，裸銅、鍍銀基板朝上，輸入電源為13.56MHZ，腔內(nèi)體積為10L，通入氣體為氬氣，流量100ml/ min，等離子清洗機(jī)的功率300W，處理時(shí)間為180s，其內(nèi)部產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)過程如下：

化學(xué)清洗:表面反應(yīng)以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗。

例：O2＋e－→ 2O※ +e－     O※＋有機(jī)物→CO2+H2O

從反應(yīng)式可見，氧等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機(jī)物變成易揮發(fā)的H2O和CO2。

例：H2+e-→2H※+e-      H※+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬＋H2O

從反應(yīng)式可見，氫等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。

物理清洗：表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫濺射腐蝕。

例：Ar＋e-→Ar++2e-       Ar++沾污→揮發(fā)性沾污

氬離子在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動(dòng)能，然后轟擊被清洗工件表面，去除了氧化物、環(huán)氧樹脂溢出或是微顆粒污染物，同時(shí)進(jìn)行表面能活化。

最后經(jīng)過真空等離子處理裸銅和鍍銀陶瓷基板之后，兩個(gè)樣品顏色發(fā)生了明顯變化，變得更加鮮亮，結(jié)果證明氧化物被成功還原。